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光纤激光打标机使用需要哪些注意事项

botetech 发表于 2016-8-31 09:57:04 | 显示全部楼层 [复制链接]
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       光纤激光打标机属精密设备,维修难度大,故在日常使用过程中应注意以下几点:

      (1)设备应安装于无粉尘、无油烟、无腐蚀性气体的工作间内,环境温度不超过10℃一35℃ ,湿度45% 一85%,为了确保通风良好和维修需要,该机与墙及其它障碍物之间的距离至少保持0.6m。

      (2)设备不工作时,将场镜镜头盖盖好,防止灰尘污染光学镜片;如果是聚焦镜表面被污染,应卸下聚焦镜清洗其下端表面。拆卸时应特别小心,注意不要磕碰,也不要用手或其他物品触及聚焦镜镜面。
      (3)设备工作时电路呈高压状态,开机工作时切勿检修,以免发生触电事故;出现任何故障应立刻切断电源。

      (4)防止光纤折断,激光器和激光头之间由光纤进行连接,在使用过程中应确保光纤弯曲直径大于300mm,弯曲严重将导致的光纤折断和激光器系统不能正常工作。

      (5)激光器输出的激光为波长1.064IXm的可见红外光,即使在偏离焦距的情况下也有可能造成三级烧伤。设备操作人员操作时必须佩戴安全防护眼镜,光束中包含有可见和不可见的辐射,即使佩戴防护眼镜也禁止直视激光光束。
    本文编辑:http://www.sz-bote.com/ 深圳博特激光设备制造商 [臧生 13923429552] 供应激光打标机、紫外激光打标机、光纤激光打标机、co2激光打标机、不锈钢激光焊接机、光纤激光焊接机、激光焊接机、光纤激光切割机等十多款激光设备,激光设备价格行业最低,品质最高的品牌QQ:1277101338




光纤激光打标机
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发表于 2016-8-31 09:57:04 | 显示全部楼层
作光纤的紫外光源怎么使用?
成栅的紫外光源 光纤的光致折射率变化的光敏性主要表现在244nm紫外光的错吸收峰附近,因此除驻波法用488nm可见光外,成栅光源都是紫外光。大部分成栅方法是利用激光束的空间干涉条纹,所以成栅光源的空间相干性特别重要。目前,主要的成栅光源有难分子激光器、窄线宽准分子激光器、倍频Ar离子激光器、倍频染料激光器、倍频OPuli激光器等,根据实验结果,窄线宽准分子激光器是目前用来制作光纤光栅最为适宜的光源。它可同时提供193nm和244nm两种有效的写入波长并有很高的单脉冲能量,可在光敏性较弱的光纤上写人光栅并实现光纤光栅在线制作。2.3成栅方法 光纤光栅制作方法中的驻波法及光纤表面损伤刻蚀法,成栅条件苛刻,成品率低,使用受到限制。目前主要的成栅有下列几种。 1)短周期光纤光栅的制作 a)内部写入法 内部写入法又称驻波法。将波长488nm的基模氛离子激光从一个端面耦合到错掺杂光纤中,经过光纤另一端面反射镜的反射,使光纤中的人射和反射激光相干涉形成驻波。由于纤芯材料具有光敏性,其折射率发生相应的周期变化,于是形成了与干涉周期一样的立体折射率光栅,它起到了Bragg反射器的作用。已测得其反射率可达90%以上,反射带宽小于200MHZ。此方法是早期使用的,由于实验要求在特制锗掺杂光纤中进行,要求锗含量很高,芯径很小,并且上述方法只能够制作布拉格波长与写入波长相同的光纤光栅,因此,这种光栅几乎无法获得任何有价值的应用,现在很少被采用。示。用准分子激光干涉的方法,liuhaiyun首次制作了横向侧面曝光的光纤光栅。用两束相干紫外光束在接错光纤的侧面相干,形成干涉图,利用光纤材料的光敏性形成光纤光栅。栅距周期由∧=λuv/(2sinθ)给出。可见,通过改变人射光波长或两相干光束之间的夹角,可以改变光栅常数,获得适宜的光纤光栅。但是要得到高反射率的光栅,则对所用光源及周围环境有较高的要求。这种光栅制造方法采用多脉冲曝光技术,光栅性质可以精确控制,但是容易受机械震动或温度漂移的影响,并且不易制作具有复杂截面的光纤光栅,目前这种方法使用不多。 c)光纤光栅的单脉冲写入 由于难分子激光具有很高的单脉冲能量,聚焦后每次脉冲可达J·cm-2,近年来又发展了用单个激光脉冲在光纤上形成高反射率光栅。英国南安普敦大学的lihaiyun等人对此方法进行了研究,他们认为这一过程与二阶和双光子吸收有关。由于光栅成栅时间短,因此环境因素对成栅的影响降到了最低限度。此外,此法可以在光纤技制过程中实现,接着进行涂覆,从而避免了光纤受到额外的损伤,保证了光栅的良好强度和完整性。这种成栅方法对光源的要求不高,特别适用于光纤光栅的低成本、大批量生产。 d)相位掩膜法 将用电子束曝光刻好的图形掩膜置于探光纤上,相位掩膜具有压制零级,增强一级衍射的功能。紫外光经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹,写入周期为掩膜周期一半的Bragg光栅。这种成栅方法不依赖于人射光波长,只与相位光栅的周期有关,因此,对光源的相干性要求不高,简化了光纤光栅的制造系统。这种方法的缺点是制作掩膜复杂,为使KrF准分子激光光束相位以知间。隔进行调制,掩膜版一维表面间隙结构的振幅周期被选为4π(nilica-1)/(A·λKrF)=π,这里A是表面间隙结构的振幅。这样得到的相位掩膜版可使准分子激光光束通过掩膜后,零级光束小子衍射光的5%,人射光束转向+1和-1级衍射,每级衍射光光强的典型值比总衍射光的35%还多。用低相干光源和相位掩膜版来制作光纤光栅的这种方法非常重要,并且相位掩膜与扫描曝光技术相结合还可以实现光栅耦合截面的控制,来制作特殊结构的光栅。该方法大大简化了光纤光栅的制作过程,是目前写入光栅极有前途的一种方法。 2)长周期光纤光栅的制作 a)掩膜法 掩膜法是目前制做长周期光纤光栅最常用的一种方法。实验中采用的光纤为光敏光纤,PC为偏振控制器,AM为振幅掩膜,激光器照射数min后,可制成周期60μm~1mm范围内变化的光栅,这种方法对紫外光的相干性没有要求。 b)逐点写人法 此方法是利用精密机构控制光纤运动位移,每隔一个周期曝光一次,通过控制光纤移动速度可写入任意周期的光栅。这种方法在原理上具有最大的灵活性,对光栅的耦合截面可以任意进行设计制作。原则上,利用此方法可以制作出任意长度的光栅,也可以制作出极短的高反射率光纤光栅,但是写人光束必须聚焦到很密集的一点,因此这一技术主要适用于长周期光栅的写入。它的缺点是需要复杂的聚焦光学系统和精确的位移移动技术。目前,由于各种精密移动平台的研制,这种长周期光纤光栅写入方法正在越来越多的被采用。紫外光栅刻写平台的搭建可以电话联系上海光学精密机械研究所产业化单位:025-68790660
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