设为首页收藏本站热门导读

光电论坛

 找回密码
 立即注册

光学冷加工工艺资料的详细描述(工艺过程老化)

zhufengxia 发表于 2015-7-23 13:24:56 | 显示全部楼层 |阅读模式 [复制链接]
0 939
  1.  抛光粉

  1.1 对抛光粉的要求

  a.  颗粒度应均匀,硬度一般应比被抛光材料稍硬;

  b.  抛光粉应纯洁,不含有可能引起划痕的杂质;

  c.  应具有一定的晶格形态和缺陷,并有适当的自锐性;

  d.  应具有良好的分散性和吸附性;

  e.  化学稳定性好,不致腐蚀工件。

  1.2 抛光粉的种类和性能

  常用的抛光粉有氧化铈(CeO2)和氧化铁(FeO3)。

  a.  氧化铈抛光粉 颗粒呈多边形,棱角明显,平均直径约2微米,莫氏硬度7~8级, 比重约为7.3。由于制造工艺和氧化铈含量的不同,氧化铈抛光粉有白色(含量达到98% 以上)、淡黄色、棕黄色等。

  b.  氧化铁抛光粉 俗称红粉,颗粒呈球形,颗粒大小约为0.5~1微米,莫氏硬度4~7 级,比重约为5.2。颜色有从黄红色到深红色若干种。

  综上所述,氧化铈比红粉具有更高的抛光效率,但是对表面光洁度要求高的零件,还是使用红粉抛光效果较好。

  2.  抛光模层(下垫)材料 )常用的抛光模层材料有抛光胶和纤维材料。

  2.1 抛光胶

  抛光胶又名抛光柏油,是由松香、沥青以不同的组成比例配制而成,用于光学零件的精密抛光。


  2.2 纤维材料

  在光学工件的抛光中,若对抛光面的面形精度(光圈)要求不高时,长采用呢绒、毛毡及其它纤维物质作为抛光模层的材料。

  3.  常用测试仪器

  光学零件的某些质量指标,如透镜的曲率半径、棱镜的角度,需要用专门的测试仪器来测量。常用的仪器有:光学比较侧角仪、激光平面干涉仪、球径仪和刀口仪等。

  4.  抛光

  在抛光过程中添加抛光液要适当。太少了参与作用能够的抛光粉颗粒减少,降低抛光效率。太多了,有些抛光粉颗粒并不参与工作,同时也带来大量液体使玻璃边面的温度下降,影响抛光效率。抛光液的浓度也要适当,浓度太低,即水分太多,参与工作的抛光粉颗粒减少并使玻璃表面温度降低,因此降低抛光效率。浓度太高,即水分带少,影响抛光压力,抛光粉不能迅速散布均匀,导致各部压力不等,造成局部多磨,对抛光的光圈(条纹)质量有影响。而且单位面积压力减少,效率降低,抛光过程中产生的碎屑也不能顺利排除,使工件表面粗糙。一般是开始抛光时抛光液稍浓些,快完工时,抛光液淡些,添加次数少些,这有利于提高抛光效率和光洁度。另外,一般认为抛光液的酸度(pH值)应控制在6~8之间,否则玻璃表面会被腐蚀,影响表面光洁度。

  在抛光过程中检查光圈(条纹)时,如不合格,可以通过调整抛光机的转速和压力、工件与模具(抛光机下盘)的相对速度、相对位移、摆速和修整抛光模层等方法进行修改。

  a.提高主轴转速,能增加边缘部位与上模接触区域的抛光强度。经验证明,若速度过高,抛光表面温度升高,从而使抛光模层硬度降低,影响修改光圈(条纹)的效果。

  b.增加荷重以加大压力时,可提高整个抛光模和工件间接触区域的抛光强度,也将使抛光表面的温度升高,降低抛光模层的硬度。

  c.加大铁笔(上盘主轴)的位移量,可使上盘的中间部位和下盘的边缘部位同时得到修整。

  d.加大摆幅长度,增加摆轴速度会使上盘的中间部位和下盘的边缘部位加速抛光。

  e.刮槽是减少开槽部分的压力承受面和摩擦面,因此抛光下盘在开槽部分的抛光效力降低。反之,未开槽部分的抛光效力有所增大。均匀开槽时,能使抛光下盘的流动性适合与工件表面的曲率。同时,既能使抛光液含量增加,容易渗入抛光下盘面而增加抛光效力,又能减轻抛光机传动负荷。

  综上所述,为了控制和稳定抛光条件,工作场地应保持较为稳定的温度(25°C左右)和湿度(相对湿度为60~70%)。

  研磨或抛光对光学镜片腐蚀的影响

  光学玻璃腐蚀是伴随着光学玻璃抛光及抛光下盘以后的全过程,它受抛光粉及抛光用水的酸碱度以及抛光液使用时间延续趋于呈碱性及周围环境中潮湿空气、酸性气体等因素影响而产生的一种化学腐蚀。因此,可以认为光学玻璃腐蚀是一个化学过程,如果仅仅停留在抛光下盘以后,采用若干防护措施,显然是不够的。应在抛光过程中就采取必要的防护措施。

  ZF、ZBaF、LaK等光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题,长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。通过对光学玻璃在抛光过程中稳定性课题的研究和生产实验,研制并筛选出比较理想的光学玻璃抛光添加剂;即在这些化学稳定性差的光学玻璃抛光液中,添加适当的pH值调节剂及表面稳定剂,减少了ZK、ZF、ZBaF、LaK等系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题,显著提高了抛光表面质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平

.


  
  五、结束语

  从玻璃的腐蚀机理出发,依照光学玻璃在抛光过程中的化学作用,对ZK、ZF、ZBaF、LaK等化学稳定性差的光学玻璃在其抛光液中添加适当的pH值调节剂及表面稳定剂,在抛光过程中抑制玻璃腐蚀的可能性。使这几种光学玻璃抛光表面一次合格率从0%~10%左右分别提高到75%~85%左右。即使在高温高湿条件下,其一次合格率也能稳定在75%以上。同时提高抛光速率近2倍;并提高玻璃抛光表面的粗糙度及"亮度"。抛光下盘以后,可存放数天或10多天时间,便于零件运转和下道工序加工。在抛光下盘以后,再作若干补充防护措施,更为可靠。这项有理论、有实践、可操作的对化学稳定性差光学玻璃抛光过程中的防护措施,进一步提高了光学冷加工的效率和效益及其工艺技术水平。

  

海到尽头天为岸,山到高处我为峰!
回复

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

热门幻灯更多
  • 2018苏州国际智能展览会
  • 2018苏州激光展2018苏州
  • VDDispensing 视觉系
图库欣赏更多
精彩推荐更多

QQ|Archiver|手机版|小黑屋|光电论坛 ( 鄂ICP备11013139号-2  

GMT+8, 2018-7-22 13:28 , Processed in 0.074789 second(s), 25 queries .

Powered by Discuz! X3.2  Template by:光粒网

© 2001-2022 www.oeworld.cn

快速回复 返回顶部 返回列表